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半导体装备 Semiconductor

iTops i233

PVD ITO溅射系统

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iTops i233 PVD ITO溅射系统
iTops i233 PVD ITO Sputter System
iTops i233主要用于4/6/8英寸ITO沉积工艺。系统由传输？、工艺模块、附属设备以及电源柜组成。该设备具有占地面积。峁辜虻ィ僮髁榛，维修方便，运营成本低等优势。
设备特点
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